Китайская компания Langdao Silex впервые публично продемонстрировала прототип собственного источника излучения для EUV-литографии. По заявлению компании, 90 % компонентов системы произведены в Китае, а большинство ключевых узлов разработано внутри самой Langdao Silex. Представители утверждают, что выход на серийное производство займёт от трёх до пяти лет.

По опубликованной технической информации, маломощная установка, получившая название FlintNano LPP-OXXO, опирается на лазерную плазменную технологию. Приводной лазер имеет мощность 1000 Вт, частоты импульсов 1–20 кГц, заявленную выходную мощность EUV-излучения свыше 15 Вт и яркость около 100 Вт/(мм²·ср). Показатели стабильности плазмы и энергии описаны как 3 % RMS и 5 % соответственно, область плазмы — около 60 мкм, непрерывная работа — более 100 часов.

Однако на фоне заявленной готовности Langdao Silex к выпуску серийных EUV-источников для промышленных литографических систем существует значительный разрыв между возможностями и требованиями к коммерческим установкам. По отраслевым оценкам, промышленным литографическим станкам обычно требуются источники мощностью в сотни ватт, способные стабильно работать длительное время, что остаётся основным препятствием на пути к коммерциализации.

В контексте этой темы упоминаются и достижения ASML: в 2018 году компания достигла мощности 250 Вт и запустила переход к серийному производству чипов с EUV-литографией, а в апреле 2025 года продемонстрировала источник мощностью 1000 Вт — однако его коммерческое внедрение остаётся проблематичным и требует дальнейших инженерных работ. Одновременно отмечается необходимость не только повышения мощности, но и улучшения стабильности плазмы, срока службы источника и надёжности интеграции всех подсистем.

Ранее стало известно, что в Китае уже налажено производство менее совершенных литографических установок на глубоком ультрафиолете (DUV) для местных производителей чипов, однако EUV остаётся более сложной задачей и требует прогресса в нескольких критически важных подсистемах. Это подчёркнуто на фоне сообщений о целенаправлении Langdao Silex на доводку и развитие своей собственной технологии.

Источник изображения: Langdao Silex.