Нидерландская ASML в сотрудничестве с немецким поставщиком оптики Carl Zeiss приступила к разработке новой литографической системы под названием Hyper NA. Это совместный проект, который на данный момент находится на ранней стадии и не имеет принятого решения о запуске серийного производства. В рамках работ компаниям предстоит решить ряд технических задач, чтобы в будущем превзойти возможности текущих установок с высокой числовой апертурой.

По словам источников, на создание технологии может потребоваться около десяти лет. На этапе исследований и проектирования пока не озвучено ни графиков по выпуску прототипов, ни конкретных сроков начала коммерческого применения Hyper NA. Однако компаниям явно нужна новая система, чтобы соответствовать требованиям повышения производительности и снижения энергопотребления в полупроводниковой индустрии.

Ожидается, что Hyper NA позволит формировать ещё более мелкие элементы микросхем по сравнению с текущими установками High-NA EUV: потенциально система сможет работать со структурами размером около 5 нм, а разрешение может вырасти более чем на треть по сравнению с возможностями нынешнего оборудования. Это станет возможным за счёт новых архитектур и усовершенствований в оптике и световых путях диагностики.

Carl Zeiss уже занимается созданием зеркал необходимой для Hyper NA точности, тогда как ASML планирует использовать часть существующих решений, включая источник света, чтобы не перестраивать всю систему освещения с нуля. Такой подход может снизить риски и ускорить переход к более передовым шагам разработки.